wyposażenie
laboratorium nanotechnologii
na czym pracujemy?
Mikroskop SEM/Ga-FIB FEI Helios NanoLab 600i
* W celu uzyskania bardziej szczegółowych informacji prosimy o kontakt z naszymi inżynierami.
zastosowanie
- Ultrawysokorozdzielcze obrazowanie powierzchni preparatu.
- Tworzenie i analiza przekrojów w nano- i mikroskali.
- Selektywne nanoszenie materiałów w technologii FEBID i FIBID.*
- Obrazowanie kontrastu materiałowego preparatu.
- Możliwość charakteryzacji szerokiego spektrum preparatów przewodzących i nieprzewodzących bez ich modyfikacji.*
- Trójwymiarowa rekonstrukcja preparatu na podstawie obrazów SEM oraz pierwiastkowych map EDS (objętość około 1 000 μm3).
- Przygotowywanie wysokiej jakości próbek TEM o grubości poniżej 100 nm.
- Szybkie prototypowanie struktur przestrzennych w mikroskali.
parametry
Zakres napięć przyspieszających:
- kolumna elektronowa: 350 V -30 kV (w trybie Beam Deceleration od 50 V),
- kolumna jonowa: 500 V – 30 kV.
Rozdzielczość:
- wiązka elektronowa: 1 nm,*
- wiązka jonów: 2,5 nm.*
Maksymalne parametry preparatu:
- średnica: 150 mm z pełnym obrotem próbki (możliwy montaż większych preparatów*),
- wysokość: 100 mm,
- maksymalna waga: 500 g (wliczając uchwyt preparatu).
detektory
- ETD (elektrony wtórne)
- TLD (elektrony wtórne)
- ICE (jony wtórne)
- CBS (elektrony wstecznie rozproszone)
Zdjęcie
Mikroskop SEM/Xe-PFIB FEI Helios G4 PFIB CXe
* W celu uzyskania bardziej szczegółowych informacji prosimy o kontakt z naszymi inżynierami.
zastosowanie
- Ultrawysokorozdzielcze obrazowanie powierzchni preparatu.
- Tworzenie map pierwiastkowych EDS, analizy punktowe oraz liniowe składu pierwiastkowego.
- Tworzenie i analiza przekrojów w nano- i mikroskali.
- Selektywne nanoszenie materiałów w technologii FEBID i FIBID.*
- Obrazowanie kontrastu materiałowego preparatu.
- Możliwość charakteryzacji szerokiego spektrum preparatów przewodzących i nieprzewodzących bez ich modyfikacji.*
- Trójwymiarowa rekonstrukcja preparatu na podstawie obrazów SEM oraz pierwiastkowych map EDS (objętość około 1 000 000 μm3).
- Przygotowywanie wysokiej jakości próbek TEM o grubości poniżej 100 nm – kompatybilność z materiałami na bazie aluminium i galu.
- Szybkie prototypowanie struktur przestrzennych w mikroskali.
- Trawienie materiałów bez pozostawiania artefaktów (np. implantacja galu).
parametry
Zakres napięć przyspieszających:
- kolumna elektronowa: 50 V – 30 kV,
- kolumna jonowa: 2 kV – 30 kV.
Rozdzielczość:
- kolumna elektronowa: 1 nm,
- kolumna jonowa: <25 nm.*
Maksymalne parametry preparatu:
- średnica: 150 mm z pełnym obrotem próbki (możliwy montaż większych preparatów*),
- wysokość: 100 mm,
- maksymalna waga: 500 g (wliczając uchwyt preparatu).
detektory
- ETD (elektrony wtórne)
- TLD (elektrony wtórne)
- ICE (jony wtórne)
- CBS (elektrony wstecznie rozproszone)
- EDS (charakterystyczne promieniowanie rentgenowskie*)
Zdjęcie
Mikroskop Quanta 3D 200i ESEM/Ga-FIB
Mikroskop Quanta 3D 200i ESEM/Ga-FIB łączy w sobie mikroskop elektronowy bazujący na katodzie wolframowej oraz mikroskop jonowy. Jego ogromną zaletą jest możliwość skorzystania z trzech trybów obrazowania: wysokopróżniowego (Hi-Vac), niskopróżniowego (Lo-Vac) i środowiskowego (ESEM). W zależności od rodzaju próbki, zdolność rozdzielczą mikroskopu ocenia się na ok. 300-500 nm. Tryb niskiej próżni (Lo-Vac) umożliwia obrazowanie suchych próbek nieprzewodzących bez jakiejkolwiek uprzedniej preparatyki. Natomiast obrazowanie SEM w trybie środowiskowym ze względu na kontrolowaną próżnię umożliwia badanie preparatów biologicznych i innych, które w warunkach próżni zaczynają gazować. Mogą być to próbki w postaci płynnej i stałej, próbki o wysokiej wilgotności oraz wszystkie próbki niekompatybilne z wysoką próżnią, np. tkanki roślinne oraz zwierzęce. Detektory dostępne to ETD, BSE, LFD do Low Vac i GSED dla trybu ESEM.
Mikroskop konfokalny Olympus LEXT 3D Measuring Laser Microscope OLS5000-SAF
Konfokalny mikroskop Olympus LEXT 3D pozwala na precyzyjny pomiar kształtu i chropowatości powierzchni próbek na poziomie submikronowym. Dzięki możliwości wykonywania dokładnych pomiarów 3D na szerokim zakresie typów próbek, dostarcza on wiarygodnych danych potrzebnych do zapewnienia jakości i kontroli procesów wytwórczych. Jednocześnie mikroskop ten umożliwia obrazowanie mikrostruktury materiałów, co pozwala na podstawową weryfikację zgodności materiału ze stawianymi mu wymaganiami – w tym analizy potencjalnie występujących defektów takich jak wtrącenia niemetaliczne, mikropęknięcia, porowatości lub inne nieciągłości materiału.
Stanowisko laserowe
Unikatowe stanowisko laserowe zbudowane przez nasz zespół z niezależnych elementów składa się z lasera femtosekundowego, pięcioosiowej głowicy (działającej m.in. w trybie trepanacji) oraz ruchomego stołu zwiększającego możliwości produkcyjne wykonywania nawet bardzo skomplikowanych geometrii. Jego przewagą jest również zminimalizowanie oddziaływań cieplnych w obrabianym materiale, pozwalając na bardzo precyzyjną i czystą pracę, bez konieczności dalszej obróbki. Nadaje się do mikroobróbki oraz produkcji mikrokomponentów. Szerokie zastosowanie znajduje również w obróbce elementów optycznych (kryształy fotoniczne, światłowody, mikrosoczewki) oraz mikroukładach elektromechanicznych (MEMS).
